反應離子刻蝕機是一種用于信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器，它利用射頻電源在上下電極間產生輝光放電，使反應氣體分子被電離生成等離子體，然后通過化學和物理反應來移除襯底表面的材料。
反應離子刻蝕機具有以下特點：
反應離子刻蝕機在微納加工領域有著廣泛的應用，如制備微型傳感器、微型馬達、微型光學器件等。它可以實現高度各向異性的刻蝕，即沿垂直方向刻蝕速率遠大于沿水平方向刻蝕速率，從而保證了圖形的精確轉移和高方面比。
上一篇： 芯片的結構和幾大基本工藝
下一篇： 來看看芯片開封機的工藝可分為哪幾類？
